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发布日期:2021年05月18日

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利用非接触式高真空退火系统强化表面多孔SiOx纳米颗粒


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通过雾化加热法、熔融盐法制备的多孔SiOx纳米材料,SiOx纳米颗粒在材料表面分布松散,这种多孔SiOx纳米颗粒被认为很容易受到机械冲击采用非接触式高真空退火系统Thermo Riko GV2S,如图1)对颗粒进行高真空高温退火,可以增强多孔SiOx纳米颗粒的表面结构


1 GV2S 型非接触式高真空退火系统


SiOx纳米颗粒的退火条件: 退火温度为1000 ℃,退火时间为30 min,升温速率为120 ℃/min,真空度为5.0×10 -6 pa


不同浓度的条件下,雾化加热制备的多孔SiOx纳米颗粒的SEM图像和多孔SiOx纳米颗粒形成的示意图如图2所示。


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经过高真空退火后,颗粒表面变得更加光滑平坦,说明SiOx纳米颗粒在退火过程中发生了表面熔化,增加了SiOx粉末之间的连接,因此,整个多孔的纳米颗粒会被加强。



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2 不同浓度的条件下,雾化加热制备的多孔SiOx纳米颗粒的SEM图像和多孔SiOx纳米颗粒的形成示意图。



3 多孔SiOx纳米颗粒退火前和退火后的SEM图像


多孔SiOx纳米颗粒退火后,表面熔化,变得光滑平整。这表明,含有SiOx纳米颗粒的链结构可以单独收紧和增强。为后续在多孔SiOx纳米粒子表面溅射Ti提供了条件。

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摘自:Exothermically reactive titanium-silica nanoparticles .

作者:Michiko ShindoKeita KiyoharaKeita InoueKenta KodamaTakahiro Namazu.